KLA是連接電子和光子光學、感測器技術以及人工智慧的紐帶。 從初始晶圓成為下一代晶元再到改變世界的理念，我們協助實現未來。其中KLA Instruments TM提供一系列輪廓、奈米壓痕、薄膜厚度、電阻測量以及缺陷量測等量測系統，對於行業專家、學術界和其他創新者，提供值得信賴的量測技術，協助技術上實現突破性的發展。
納米壓痕技術創新時程表
約 40 年前，KLA 的 Warren Oliver 博士共同開發了奈米壓痕產品;，推動下一代材料硬度的奈米力學測試技術向前發展。
•1983 Nano Instruments Inc. 發佈了第一款商用奈米壓痕儀，稱為 Nano I。
•1989 Warren Oliver博士和 John Pethica爵士獲得了連續剛度測量（CSM）技術的專利，這是奈米力學測試領域首屈一指的創新。
•2002 發佈NanoUTM用於測量纖維的拉伸性能，其典型應用是測量蜘蛛絲性能。
•2006 Nano Indenter G200 是第一款符合 ISO 14577 標準的奈米力學測試儀。
•2014 Nanomechanics 發佈了經濟適用的緊湊型奈米壓痕儀 iNano®， 以及高性能原位系統 NanoFlip。
•2019 KLA發佈了Nano Indenter G200X，其基於G200 在性能和易用性方面有顯著改進。
我們的客戶
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